САЩ разшириха военния черен списък: Добавиха Alibaba, BYD и Baidu
Според репортаж на South China Morning Post [1], Министерството на отбраната на САЩ (DOD) е разширило своя списък с „китайски военни компании“, опериращи пряко или косвено на територията на САЩ. Актуализацията е извършена съгласно член 1260H от Закона за националната отбрана (NDAA), като в списъка са добавени технологични лидери като Alibaba, BYD, Baidu и Nio. Това решение представлява сериозно разширяване на обхвата на американските мерки за сигурност спрямо китайския технологичен сектор.
Изображение: Svetni.me / Авторско изображение
Обхват и мотиви за черния списък
След последната актуализация общият брой на санкционираните организации в списъка 1260H достигна 188 дружества [1]. Освен гореспоменатите гиганти, сред новодобавените лица са WuXi AppTec, JA Solar, Trina Solar, Unitree, Hesai, RoboSense и TP-Link. Американската администрация обосновава включването им с предполагаеми връзки с националната стратегия на Пекин за „военно-гражданска фузия“, при която цивилни технологии се използват за модернизация на китайската армия.
Регулаторни последици и срокове
Въпреки че черният списък не представлява директна търговска забрана, той налага сериозни ограничения върху държавните поръчки на САЩ [1]. От 30 юни 2026 г. влиза в сила забрана за Пентагона да сключва преки договори с изброените компании, а от 30 юни 2027 г. забраната ще се разшири и по отношение на веригите за доставки. Допълнително, от края на юни 2026 г. се въвеждат ограничения за сключване на договори с организации, които наемат лобисти за компаниите от списъка.
Дългосрочен репутационен ефект
Мерките служат предимно като филтър за скрининг и носят значителни репутационни щети за китайските технологични лидери [1]. Позиционирането им като компании с военно значение ограничава възможностите им за привличане на американски капитал и инвеститори. Повечето от засегнатите компании категорично отхвърлят твърденията на Вашингтон и заявяват, че дейността им е изцяло гражданска и пазарно ориентирана.
Източници: