EUV (Extreme Ultraviolet Lithography)

Екстремната ултравиолетова литография (EUV) е авангардна технология в производството на полупроводници. Тя използва светлина с изключително къса дължина на вълната (13,5 нанометра), за да „рисува“ миниатюрни схеми върху силициеви пластини.

Тази технология позволява на производителите на чипове да побират милиарди транзистори в рамките на няколко квадратни милиметра, което води до по-бързи и по-енергийно ефективни процесори. Машините за EUV литография се произвеждат изключително от нидерландската компания ASML.